鈷金屬 標簽 新聞 第 1 頁
应材 推出CVD／PVD新技术
全球最大半导体设备厂应用材料宣布推出Endura Volta化学气相沉积（CVD）钴金属系统，借由钴金属来包覆铜导线，提供半导体厂快速抢进20奈米以下先进制程。同时，应用材料也推出Endura Ven
应材新系统 助晶圆制造起飞
全球最大半导体设备厂应用材料全球副总裁余定陆昨（6）日表示，应用材料推出Applied Endura Volta化学气相沉积（CVD）钴金属系统，解除导线技术瓶颈，让摩尔定律持续往下微缩至20奈米以下
全球最大半导体设备厂应用材料宣布推出Endura Volta化学气相沉积（CVD）钴金属系统，借由钴金属来包覆铜导线，提供半导体厂快速抢进20奈米以下先进制程。同时，应用材料也推出Endura Ven
全球最大半导体设备厂应用材料全球副总裁余定陆昨（6）日表示，应用材料推出Applied Endura Volta化学气相沉积（CVD）钴金属系统，解除导线技术瓶颈，让摩尔定律持续往下微缩至20奈米以下