發表日期 5/14/2022, 10:02:40 AM
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不得不說,由於之前在半導體供應鏈市場上,全球化一直都是比較順暢的,再加上我們國內的半導體産業鏈發展較晚,所以很多産品我們都選擇瞭從國際采購,例如芯片製造設備就是其中一個環節。
但是近年來,美國方麵一直在推行科技霸權主義,禁止在某些最為先進的設備上,齣口給我們的企業,例如EUV光刻機。
雖然EUV光刻機是荷蘭的ASML所生産,但是其中需要用到的光源,其55%的零配件來自於美國,而且相關的EUV技術,也來自美國EUVLLC聯盟,所以ASML受到瞭美國的管製,無法嚮我們齣貨EUV光刻機。
但是現在中芯國際傳來瞭好消息,根據中芯國際在晚間發布的財報消息,其今年第一季度實現瞭營收增長瞭67%,毛利更是增長瞭200%,同時也是首次實現毛利超過瞭40%。
毫無疑問,這似乎是中芯國際近年來的最好財報水平,然而我們還注意到,由於美國的科技霸權,導緻我們國産供應鏈近年來持續發力,進步較快,而中芯國際在近年來,也在不斷加大對國産供應鏈的采購。
不僅如此,中芯國際還是國內一些主要芯片製造設備供應商的股東,甚至是大股東,例如拓荊科技,其研發製造薄膜沉積設備,該設備與光刻機、刻蝕機同是芯片製造的“三大主機”。
目前拓荊科技的薄膜沉積設備已經實現14納米交付,更先進工藝的産品,也已經進入實驗階段,距離量産也不遠瞭。
除此之外,與芯片製造有關的提升良率的設備和軟件,中芯國際也一直積極采購國産供應鏈,例如東方晶源,在這方麵其實就已經替代瞭ASML。
要知道ASML的四大支柱産業,分彆是EUV光刻機、DUV光刻機、電子束量測和計算光刻。
其中電子束量測和計算光刻軟件,東方晶源都是實現瞭國産化,並且交付客戶使用。
尤其是去年的時候,中芯國際就購入瞭東方晶源首台12英寸的電子束量測設備,而且我們注意到,就是從去年開始,中芯在28納米和FinFET工藝上營收占比越來越高。
到2021年第四季度,其占比已經是2020年第四季度的近四倍。
所以我們看到,在近年來,雖然中芯國際一直在加大對國産供應鏈的采購,但是並沒有影響中芯國際的量産和盈利水平。
這說明我們國産供應鏈經受住瞭市場的考驗,而下一步就是光刻機瞭。
有的朋友知道,在光刻機上,我們下一步是實現28納米。
可能有的朋友會說,28納米都說瞭很長時間瞭,怎麼還沒有實現,這大傢就有所不知瞭。
目前我們國産光刻機製造工藝停留在90納米,其工藝水平大緻相當於ASML的1060K,而我們下一步要實現的28納米光刻機,工藝水平與ASML的1970ci相當。
但是ASML從1060K到1970ci,中間還間隔瞭兩款光刻機,分彆是1460K和1470,簡單來說,就是整整相隔瞭一整個代際的産品,也就是ARF光刻機。
沒錯,我們從90納米推進到28納米,其實就是跳躍瞭ARF光刻機,這就需要我們同時解決三個問題:ARF光源、浸沒係統、1.35NA鏡頭。
而ASML由於中間有過渡,所以每一次更新都是小幅提升,而且更新頻率也更高。
所以不是我們進步太慢,而是我們選擇瞭跨越式發展,因為情況不一樣瞭。
當年的市場需求,使得ASML可以一點一點升級産品,但是現在,我們就需要跨越式發展。
而且從市場需求來看,浸沒式光刻機,也就是ARFI光刻機,也比ARF光刻機的需求大得多。
目前我們在光源和浸沒係統上都已經完成,隻剩下鏡頭,也就是光學曝光係統,國望光學作為我們國産光刻機鏡頭的供應鏈企業,已經錶示明年交付28納米及以下工藝産品。
這就意味著,我們國産28納米光刻機將很快齣現,也標誌著國産DUV光刻機最為艱難的“三座大山”被全部解決。
這將可以直接生産14納米芯片,而後續光刻機支持7納米甚至5納米,其實都可以快速推進。
是
得
,不是隻有EUV光刻機纔能生産5納米芯片,DUV光刻機也可以,而且即便采用EUV光刻機,也需要DUV光刻機配閤,並非生産先進工藝芯片,全部是由EUV光刻機來完成。
而之所以在7納米之後選擇瞭EUV光刻機,是因為EUV光刻機能讓芯片代工廠賺更多的錢。
實際上早在10納米工藝上,ASML就量産瞭EUV光刻機,但是代工廠沒用,因為不劃算,直到在第二代7納米工藝,ASML算是趕瞭上來。
之前世界第四大芯片代工廠格芯總裁就說過,如果用DUV光刻機生産5納米芯片,那麼將會曝光一百多次。
是的,DUV光刻機也能生産先進工藝芯片,就是步驟多一些,但是如果控製好良率,也沒有什麼問題。
這或許也是ASML之前在沒有任何證據的情況下,就指責東方晶源侵權的原因,因為東方晶源提供的計算光刻、EBI和CD-SEM産品,就是為瞭提升良率。
因此一旦我們國産28納米光刻機實現量産,鑒於當下中芯國際的運營情況,實現國産替代ASML是沒有問題的。
而且從時間上來看,正好符閤中芯國際對14納米工藝的擴産時間點。
不僅如此,我們注意到,ASML在進入該節點後,基本上每相隔兩到三年,會更新其ARFI光刻機。
由於ARFI光刻機三大難題已經攻破,所以後續的升級,與ASML就沒有太大區彆,因此時間節點上也會比較接近。
而這也正好符閤中芯國際後續的工藝發展步驟,因此當我們國産28納米光刻機量産後,ASML的産品將會迅速被替代。
這裏不僅指中芯國際,而是代指所有的中國芯片廠商,都會更願意選擇國産光刻機。
要知道,光刻機是一種特殊設備,不是設備投入生産就結束瞭,後續還需要生産商提供大量的售後服務。
所以說,即便我們買迴來ASML的光刻機,但是後續還需要依賴它提供的售後服務,如果在售後方麵停止服務,那麼當設備齣現問題,也將無法解決,再先進的設備,也就成瞭擺設。
因此如果有國産産品,自然國産産品要更受青睞,尤其是在當下這樣的大環境下,大傢都擔心供應鏈安全問題。
而且根據之前中科院方麵的錶示,要在十年內解決卡脖子的光刻機問題,而卡脖子的就是EUV光刻機。
所以按照這個時間點來計算,當我們的DUV光刻機發展到7納米時,正好與中科院解決EUV光刻機的時間點相貼閤。
實際上,在DUV光刻機上,其中關鍵的曝光係統,其主要技術支撐團隊也是中科院,包括中科院長光所和上光所。
因此我們國産光刻機進入28納米是一個關鍵節點,這就意味著對ASML將不是剛性依賴,因為國産産品已經可以滿足量産的生産需求。
而後續的發展,將會與芯片代工廠的發展同步,那麼對ASML的需求就更小瞭。
這裏可能會有朋友提齣反駁,但是我們不妨換個角度來看,就拿中芯國際來說,其7納米技術已經開發完成,但為什麼我們遲遲看不到中芯國際生産的7納米芯片呢?
而且其N+1工藝的芯片在市場上也很少。
要知道,中芯國際是可以采購ASML的DUV光刻機的,它可以用於生産N+1工藝和7納米工藝。
這也就是為什麼說,我們國産光刻機的後續研發,是可以匹配國産芯片工廠的量産進度的原因。
同時,也是在說明,我們後續對ASML的需求將極大減弱,因此,28納米光刻機,將會是一個曆史轉摺的標誌性事件,我們拭目以待。
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