發表日期 2023-05-17
《科創闆日報》1月12日訊(編輯 鄭遠方) 台積電3nm製程技術已於近期宣布量産。但市場消息指齣,初代N3製程技術成本“非常高”,影響IC設計廠采用積極性。 目前隻有蘋果采用,甚至有報道稱今年蘋果或是台積電3nm唯一一傢客戶 。
為刺激客戶采用興趣, 台積電已在謀劃“降價大促銷”——據Tom’s Hardware報道,台積電正在考慮降低3nm製程係列技術報價 。
台積電3nm製程係列包含多個細分製程技術,包括N3、N3E、N3P、N3X等。
其中,還未麵世的新一代N3E製程成本較N3製程來得低,這一情況也已成為市場共識。
有市場分析師指齣, N3製程中,EUV微影曝光流程多達25層,而如今單台EUV微影曝光設備造價即高達1.5億-2億美元 。因此,N3技術極為昂貴,而台積電為攤平設備采購成本,不得不對N3及後續製程收取高昂費用。
此前有消息稱, 使用台積電N3製程技術後,單片晶圓生産費用可能高達20000美元,較N5製程晶圓單價(16000美元)高齣20% 。
正如上文所述,台積電正考慮降低3nm係列製程報價,尤其是N3E製程。
為何是N3E?該製程最多僅需使用19層EUV微影曝光流程,製造復雜度略低,其成本也較低。因此,台積電可在不損害獲利能力的情況下,進一步降低N3E製程的生産報價。
分析師預計,2023年下半年,N3製程産能便將迎來“有意義的”提升,不過,屆時優化版本N3E製程也將準備就緒。
因此,高性能運算、智能手機、定製芯片等方麵的主要客戶(包括AMD、英特爾、高通、聯發科、MRVL、AVGO、GUC等), 可能將留在原有的N4或N5(4/5nm)製程節點,或選擇成本較低的N3E來作為首次在3nm製程上的投産節點 。
另外,根據AMD此前公開的計劃來看,其2024年部分采用Zen 5設計的産品將采用3nm製程生産;英偉達也計劃在其下一代Blackwell架構GPU中,采用3nm製程技術。
在3nm係列製程技術成本高昂的情況下,客戶對該技術的采用或將局限於某些特定産品。而一旦台積電願意降價,客戶未來或將重新考慮3nm係列製程采用策略。